1、抛光必须在清洁无尘的室内进行。因为硬尘粒会污染研磨材料，损害已接近完成的模具表面。
2、每个抛光工具只使用一个级别的抛光钻石膏，并存放在防尘或密封的容器内。
3、当要转换更细一级的砂号时，要注意该级砂号是否完全覆盖上一级(较粗)砂纹，必须清洗双手和工件。
4、开始抛光时要先处理角落、边角和圆角等较难抛光的地方。
5、处理尖角及边角时应特别小心，注意不要形成圆角或圆边，应尽量采用较硬的抛光工具进行模具的研磨和油石打磨。
　 抛光机由底座、抛盘、抛光织物、抛光罩及盖等基本元件组成。同时也要使抛光损伤层不会影响终极观察到的组织，即不会造成假组织。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向往返移动，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物保持一定湿度。电念头固定在底座上，固定抛光盘用的锥套通过螺钉与电念头轴相连。为了达到粗抛的目的，要求转盘转速较低，最好不要超过500r/min；抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，由于还要去掉变形层。抛光织物通过套圈紧固在抛光盘上，电念头通过底座上的开关接通电源起动后，便可用手对试样施加压力在滚动的抛光盘长进行抛光。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有最大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不外也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使超声波模具抛光机抛光损伤减到最小。
   抛光罩及盖可防止灰土及其他杂物在机器不使用时落在抛光织物上而影响使用效果。解决这个矛盾的最好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。
　 抛光机操纵的枢纽是要想法得到最大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。精抛时转盘速度可适当进步，抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。